4-etenilfenol acetato CAS 2628-16-2

El p-acetoxistireno se puede usar para sintetizar polyparahidroxistireno como un componente principal de una fotorresistencia (fotorresistente). La serie de fotorresistros de poli-P-hidroxistireno de fotorresistas amplificados químicamente son actualmente los productos fotorresistentes principales del mundo, y son una de las tecnologías clave para procesar circuitos integrados y chips de fabricación. La tecnología de grabación fotográfica se desarrolla a partir de la producción de un ancho de línea de 0.3-0.28 μm hasta la luz ultravioleta profunda (longitud de onda 248 nm) para producir un ancho de línea de 0.18 μm, y la luz ultravioleta ultravioleta ultra profunda (longitud de onda 193Nm) puede usarse para rastrear el rastreo del Ancho de línea a 0. Microcircuito de 11 μm. La fotorresistencia de 248 nm generalmente usa el derivado de poli-P-hidroxistireno como resina formadora de películas, sal yodonio de arilo o sal de sulfonio como generador de fotoácidos, utilizando tecnología de amplificación química para liberar el generador de fotoacidas bajo la luz del ácido, luego el ácido cataliza la luz cruzada del polímero (( Gelación negativa) o la reacción de desprotección (gelatinización positiva), aumentando en gran medida la fotosensibilidad.